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NOVOTEK?  CP100&CP200属于硫酸-双氧水体系的化学前处理惩罚产物,可以使铜面得到均匀一致的微粗化,并得到类似于研磨的外观效果;能够应用在普通化学前处理惩罚,尤其是干膜前处理惩罚等的清洁和微蚀处理惩罚上,适合精细线路制作。非常适合于高密度、细间距印刷线路板的制造。

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产物特点

*溶铜量大、无副产物、蚀刻速率稳定
*低的蚀刻速率(仅蚀铜0.5-1.0μm)优先打击晶界部分的铜,在铜外貌创造出均匀的一级和二级粗糙形态的铜外貌
*NOVOTEK? CP100中的促进剂能够改变铜外貌,可以得到均匀的微蚀铜面的粗糙度,同时也可以确保微蚀后链接力的可信度,具有稳定而易操纵的特点;
*微蚀面平整、均匀,结合力好,仅撤除极小量的铜;
*对超精细线路板技术处理惩罚效果十分优越;
*对处理惩罚薄板材(特别是干、湿膜前处理惩罚)十分适用;
*可喷淋或浸泡,对设备无特殊要求。


产物型号:

产物代码

产物名称

包装规格

备注

TP15011

化学前处理惩罚CP100

20L/

用于线路板外貌化学前处理惩罚

TP15021

化学前处理惩罚CP200

20L/

用于线路板外貌化学前处理惩罚


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